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Wteya 威特雅环境
电子半导体废水
电子半导体生产工艺复杂，工艺步骤有很多，同时使用各种化学试剂和特殊气体。主要生产工艺包括硅片清洗、氧化、扩散、化学气相沉积、光刻、脱胶、干刻蚀、湿刻蚀、离子注入、金属化镀膜、化学机械抛光等。
工艺废水主要为酸碱废水、含氟废水、有机废水、研磨废水、氨氮废水。主要污染物为pH值、氟离子、有机物、悬浮物、氨氮、溶解性固体、重金属等。因其污染成分复杂、浓度高，往往无法达到纳网排放标准。
Harm of electronic semiconductor wastewater
电子半导体废水的危害
电子废水的成分不一样，所含污染物的类型也有差别，如有铬、铜、镍、镉、锌、铅、汞等重金属离子离离子、氰化物、一些酸性物质和碱性物质。废水中的重金属离子具备毒性长，不可以生物降解等特性，并且可以在生物中富集，使生物功能紊乱，对生态环境和人体健康造成严重危害。
Integrated solution for electronic semiconductor wastewater
电子半导体废水整体解决方案
针对电子半导体废水的含盐分高废水毒性高等特点，威特雅作为专业水处理设备厂家，提供预处理、氨回收、DTRO、MBR蒸发、除盐（电渗析系统、RO系统）等多种废水处理工艺技术方案。根据每个生产企业的实际情况和当地工业废水的排放标准，定制针对性电子半导体废水处理系统。帮助客户实现电子半导体废水达标处理，不仅满足国家污水处理的标准，而且将电子半导体废水深度处理后回用于生产，从而实现电子半导体废水零排放，提供资源化利用！
Treatment technology of electronic semiconductor wastewater
电子半导体废水处理技术
SWRO 反渗透技术
SWRO reverse osmosis technology
RO反渗透膜技术
RO reverse osmosis membrane technology
DTRO碟管膜技术
DTRO disc tube membrane technology
MVR蒸发技术
MVR evaporation technology
UF超滤膜技术
UF ultrafiltration membrane technology
Project case
项目案例
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合作客户
